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氫氧化鋁水性漿料分散機

氫氧化鋁水性漿料分散機,是由膠體磨和分散機組合而成的設備,轉速高達14000rpm,強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設計的優勢在于,粒子細化之后容易出現絮凝現象,所以此時分散十分重要,而砂磨機難以分散。

  • 產品型號:GRS2000/4
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:1240
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產品詳情

一、產品名稱:氫氧化鋁水性漿料分散機,氫氧化鋁水性漿料高速分散機,氫氧化鋁水性漿料納米分散機,氫氧化鋁水性漿料超細分散機,氫氧化鋁漿料分散機

 

二、氫氧化鋁的核心應用

 

氫氧化鋁是用量zui大和應用zui廣的無機阻燃添加劑。氫氧化鋁作為阻燃劑不僅能阻燃,而且可以防止發煙、不產生滴下物、不產生有毒體,因此,獲得較廣泛的應用,使用量也在逐年增加。使用范圍:熱固性塑料、熱塑性塑料、合成橡膠、涂料及建材等行業。同時,氫氧化鋁也是電解鋁行業所必需氟化鋁的基礎原料,在該行業氫氧化鋁也是得到非常廣泛應用。

 

(價格電議,同,公司有樣機可實驗!)

 

氫氧化鋁分散機

 

三、氫氧化鋁水性漿料簡介

 

氫氧化鋁水性漿料,將氫氧化鋁粉末加入中水性,然后通過分散設備均勻穩定的分散后,得到高質量的氫氧化鋁水性漿料,可廣泛用于阻燃劑行業。

 

四、氫氧化鋁水性漿料分散設備推薦

 

結合多家化工企業案例,我司推薦GMSD2000系列研磨式高速分散機進行氫氧化鋁的研磨和分散,一般可獲得超細的物料粒徑,一般為2μm左右。當然還要看具體的物料工藝,以及原始狀態。

 

下圖為氫氧化鋁分散后的粒徑分布,分散介質為水。供參考!

 

 

 

五、SGN氫氧化鋁水性漿料分散機結構

 

,是由膠體磨和分散機組合而成的設備,轉速高達14000rpm,強大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設計的優勢在于,粒子細化之后容易出現絮凝現象,所以此時分散十分重要,而砂磨機難以分散。

GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)。

 

六、選型表

 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

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