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水性石墨烯薄膜分散液研磨分散機

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  • 產(chǎn)品型號:GMSD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-09-17
  • 訪  問  量:1346
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產(chǎn)品詳情

水性石墨烯薄膜分散液研磨分散機,工業(yè)生產(chǎn)石墨烯研磨分散機,石墨烯漿料分散機,石墨烯設(shè)備,石墨烯研磨分散機,管線式研磨分散機,高剪切研磨分散機,德國進口研磨分散機

 

思峻機械研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

石墨烯是一種由碳原子緊密堆積構(gòu)成的二維晶體,是包括富勒烯、碳納米管、石墨在內(nèi)的碳的同素異形體的基本組成單元。石墨烯的制備方法主要有機械剝離法,晶體外延法,化學(xué)氣相沉積法,插層剝離法以及采用氧化石墨烯的高溫脫氧和化學(xué)還原法等。與碳納米管類似,石墨烯很難作為單一原料生產(chǎn)某種產(chǎn)品,而主要是利用其突出特性與其它材料體系進行復(fù)合.從而獲得具有優(yōu)異性能的新型復(fù)合材料。而氧化石墨烯由于其特殊的性質(zhì)和結(jié)構(gòu),使其成為制備石墨烯和石墨烯復(fù)合材料的理想前驅(qū)體。本文綜述了石墨烯復(fù)合材料的結(jié)構(gòu)、分類及其在催化領(lǐng)域、電化學(xué)領(lǐng)域、生物醫(yī)藥領(lǐng)域和含能材料領(lǐng)域的應(yīng)用。

 

由于石墨烯的特殊結(jié)構(gòu),采用砂磨機容易破壞片層結(jié)構(gòu)。所以目前大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機進行石墨烯漿料的處理,研磨分散機是將膠體磨(研磨機)和分散機合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運轉(zhuǎn)產(chǎn)生強大的剪切力、離心力,對物料進行剪切、剝離、分散、細化。所以特別適合石墨烯漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)。

 

 

石墨烯的應(yīng)用十分廣泛,如:石墨烯鋰電池漿料、石墨烯導(dǎo)電漿料、石墨烯涂料、石墨烯復(fù)合材料、石墨烯潤滑油等等。石墨烯漿料大的難點就是分散問題,石墨烯分散到NMP中,石墨烯分散到水中,石墨烯分散到潤滑油中,都要解決一個研磨分散剝離的問題。

 

石墨烯漿料的制備方法
(1)超聲波分散設(shè)備:非常適合實驗室規(guī)模、低粘度介質(zhì)分散石墨烯,用于中、高粘度介質(zhì)時會受到限制,而且處理量比較小,不適合規(guī)模生產(chǎn)
(2)砂磨機:能夠均勻的細化石墨烯的粒徑,但是工作時間長,而且容易破壞石墨烯的原子機構(gòu),耗材更換成本高,
(3)采用研磨分散機“先把抱團粒徑打開,還原物料的原始粒徑,再把物料進步細化剝離”可以高效的得到理想的石墨烯漿料

石墨烯研磨分散機是研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

石墨烯薄膜是除石墨烯粉體外的另一種重要形態(tài)。從石墨烯薄膜性能上看,具備完整的較強導(dǎo)電性、透光性、柔性及微電子等屬性。目前ITO的替代材料有金屬網(wǎng)格、碳納米管、納米線等,而其中熱門的候選為石墨烯。可以將石墨烯薄膜作為感應(yīng)層或者驅(qū)動層,被使用在觸摸屏的模組里。

SGN石墨烯研磨設(shè)備采用高速研磨分散技術(shù),通過高轉(zhuǎn)速(高可達18000rpm)帶動高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配CM+8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì),從而得出超細的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的導(dǎo)電石墨烯漿料。

     

 上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。簡單的說就是將SGN/思峻膠體磨進行進一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) SGN研磨分散機可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達18000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
  電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、 
  電源選擇:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
  電機選配件:PTC 熱保護、降噪型 
  均質(zhì)機材質(zhì):SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
  均質(zhì)機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 
  均質(zhì)機表面處理:拋光、耐磨處理 
  進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍 
  乳化機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
  分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機,實驗室均質(zhì)機 
  應(yīng)用于:奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥(除草劑、殺蟲劑)。

 

GMSD2000 研磨分散機參數(shù)表

SGN高剪切研磨分散機選型表:

 

標準流量(H2O)

輸出轉(zhuǎn)速

標準線速度

馬達功率

進出口尺寸

 

型號

l/h

rpm

m/s

kW

 

型號

GMSD 2000/4

400

18000

51

4

DN25/DN15

GSMD 2000/4

GMSD 2000/5

1500

13500

51

7.5

DN40 /DN 32

GSMD 2000/5

GMSD 2000/10

4000

9257

51

22

DN50 / DN50

GSMD 2000/10

GMSD 2000/20

10000

3664

51

37

DN80 /DN 65

GSMD 2000/20

GMSD 2000/30

60000

1825

51

55

DN150 /DN 125

GSMD 2000/30

 

 公司有樣機可實驗!,歡迎廣大客戶來我司參觀指導(dǎo)!SGN銷售會根據(jù)客戶具體需求做適當(dāng)?shù)脑O(shè)備選型,以及根據(jù)流量做型號相應(yīng)放大!

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